DH2008 系列微波 CVD 薄膜制备装置
本装置由公司和武汉工程大学联合研制，由微波源、真空系统、供气系统、微波传输及微波谐振腔等部分组成。适合大学近现代物理、材料、化学等领域进行微波 CVD 原理与方法的教学、研究，金刚石与类金刚石薄膜制备实验及科学研究，以及用于生长碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生长速度快、操作简便、性价比高等优点。同时可完成等离子体刻蚀加工实验、微波等离子体表面改性等实验。
技术参数
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