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MiniLab-125 PVD 薄膜沉积系统

应用领域:

电子束蒸发可以蒸发高熔点材料,比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快,制成的薄膜纯度高、质量好,厚 度可以较准确地控制,可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。

MiniLab 125  PVD 薄膜沉积系统(电子束1).jpg

基本配置:

真空腔室:500mm×650mm 不锈钢 D 形腔体。前门铰链方便真空室清理;腔室底板,顶部和侧面装有腔室内硬件接口; 前门上配直径 80 玻璃观察窗(含手动防污染挡板、可拆洗防污玻璃);腔体水冷。 

抽气系统:采用复合分子泵 + 直联旋片泵作为真空抽气系统; 主抽泵:分子泵抽速≥ 1200L/S,氮气压缩比≥ 109 前级泵:VRD-30 双极旋片泵及电磁阀,抽速:8L/S 主抽阀:CCQ-200 超高真空气动插板阀 

* 真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 

真空测量: 数显复合真空计:两低一高全量程数显复合真空计; 

* 真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计 

极限真空:<5×10-5Pa 恢复真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

电子束蒸发源:电子枪采用磁流体密封,安装在腔室底部靠中心位置。 高压电压:DC-3KV -10KV(可设) 最大电流:0-1000mA(此时的加速电压是 -10kV 最大加速功率:10KW;电子束偏转角:270°(永磁铁) 

坩埚:配直径 160mm 6 穴直冷坩埚一套,电动转位和点动转位,定位精准。单穴容量≥ 20cc 

薄膜镀层控制仪: Inficon SQC-310 在线测量膜厚,可以实时测量蒸发的速度和厚度,带有 PID 控制功能, 可通过膜厚仪自动控制蒸镀速率。 

样品台:可容纳样品最大尺寸,6 英寸样品托一个 , 配挡板,转速 0-30rpm 连续可调 ; 采用基片台背板直接水冷形式;基片采用无氧铜,水冷不控温。 

控制单元:15 英寸触摸屏 +PLC 控制

选择配置:

样品可加热控温,( 可选带掩膜库系统样品台 ) 温度范围:室温 -600,控温精度 ±0.5 

电子枪可选用进口知名品牌 

离子束辅助沉积源 

全量程真空计 (Inficon)

系统要求标准配置:

工艺气体 :25psi,纯度 99.99% 以上 

工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

: 三相 380V, 50Hz, 63A 

  :18-25 , 6L/min,压力 <0.4MPa