DHDP& DHIP 系列 射频 CCP/ICP 薄膜沉积装置
本装置由我公司和中科院固体物理研究所联合研制。设备主要由薄膜沉积室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统等部分组成。
主要实验内容
1、硅材料在薄膜太阳能电池上的应用；
2、硅系纳米复合薄膜材料 PCVD 法制备；
3、等离子体化学气相沉积制备各种功能薄膜。
技术参数
本装置由我公司和中科院固体物理研究所联合研制。设备主要由薄膜沉积室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统等部分组成。
主要实验内容
1、硅材料在薄膜太阳能电池上的应用；
2、硅系纳米复合薄膜材料 PCVD 法制备；
3、等离子体化学气相沉积制备各种功能薄膜。
技术参数
